Mae angen triniaeth arwyneb yn bennaf yn ystod ac ar ôl triniaeth wres i gael gwared ar raddfa ocsid arwyneb metel a llygryddion amrywiol, lleihau gweithgaredd arwynebau metel noeth, a hefyd cyn ac yn ystod cymhwyso haenau amddiffynnol a haenau swyddogaethol amrywiol ar ditaniwm a'i aloion. Pwrpas cymhwyso'r cotio hwn yw gwella perfformiad yr arwyneb metel, megis atal cyrydiad, ocsidiad a gwisgo.
Mae amodau piclo titaniwm a'i aloion yn dibynnu ar fathau (nodweddion) yr haen ocsid a'r haen adwaith bresennol, sy'n cael eu dylanwadu gan y broses wresogi tymheredd uchel a'r cynnydd mewn tymheredd prosesu (megis gofannu, castio, weldio, ac ati. .). Ar dymheredd prosesu isel neu dymheredd gwresogi uchel o dan tua 600X, dim ond haen denau ocsid a gynhyrchir. Ar dymheredd uchel, mae parth trylediad cyfoethog ocsigen yn cael ei ffurfio ger haen ocsid penodol, y mae'n rhaid ei ddileu hefyd trwy olchi asid. Gellir defnyddio gwahanol ddulliau ar gyfer tynnu graddfa ocsid: dulliau mecanyddol ar gyfer tynnu haenau ocsid trwchus a haenau arwyneb caled, dulliau ar gyfer tynnu graddfa ocsid mewn baddon halen tawdd, a dulliau ar gyfer tynnu graddfa ocsid trwy olchi asid mewn hydoddiant asid.
Mewn llawer o achosion, gellir defnyddio cyfuniad o sawl dull, megis tynnu mecanyddol o raddfa ocsid a phiclo dilynol, Fel arall, gellir defnyddio cyfuniad o bath halen a golchi asid dilynol i gael gwared ar raddfa ocsid. Yn achos haenau ocsid a gwasgariad a ffurfiwyd ar dymheredd uwch, dylid defnyddio dulliau arbennig. Fodd bynnag, pan gaiff ei gynhesu i 600X ar dymheredd uchel, gellir diddymu'r rhan fwyaf o'r haenau ocsid a ffurfiwyd trwy olchi asid cyffredin.
